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SD-650MH
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非常適用于各大科研院所及高校進行薄膜新材料的科研與小批量制備。還可以根據自身需求選擇定制化服務，比如：樣品臺的形狀和運動軌跡。手套箱的兼容，樣品倉的大小等。 l
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安裝條件 |
選擇一個合適的儀器擺放位置： 1. 放置650MH高真空磁控鍍膜儀在一個長130cm,寬60cm的平面桌子上（桌子的承重需要在200KG以上）； 2. 放置“外置 旋轉機械真空泵”及“冷水機”在一個合適的位置（地面 / 靠近鍍膜儀主機）； 3. 系統(tǒng)總重量（鍍膜儀、電器柜、選裝泵、冷水機）約為208~240KG（選配不同），請確保有4人一起移動 / 搬運儀器； 4. 儀器的使用 / 運行環(huán)境溫度為15~25攝氏度，相對濕度不超過75%； 5. 為儀器提供一個220V，16A的空開。 6. 確保使用 / 運行環(huán)境有足夠的通風，并且避免陽光直接照射到儀器。 7. 氬氣和氬氣瓶解壓閥需自備。 |
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主要參數 |
1. 儀器主機尺寸:長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm） 2. 工作腔室尺寸：金屬腔體：直徑260mm×高270mm（外尺寸 ） 直徑210mm×高270mm（內尺寸） 3. 靶頭：標配：單靶 選配：雙靶 4. 靶材尺寸：直徑50mm×厚3mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 5. 靶材料： 標配一塊直徑50mm×3mm的銅靶 6. 靶槍冷卻方式：水冷 7. 靶頭工作方式：各靶可獨立/共同工作，采用磁控靶從上向下濺射鍍膜； 8. 真空系統(tǒng)：分子泵+直聯高速旋片式真空泵，抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s 9. 極限真空度: 5×10-5Pa（10分鐘可到5×10-3Pa） 10. 電源：標配：直流恒流電源：輸入電壓：220V 輸出電壓：0-600v 輸出電流：0-1.6A 選配：射頻電源和匹配器一體機：功率500W。 11. 載樣臺：可旋轉，直徑200mm，0-20轉/分鐘（可調） 12. 工作氣體： Ar等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥） 13. 氣路： 氣路可以通過電磁流量閥觸摸屏與手動閥聯動控制。 14. 水冷：自循環(huán)冷卻水機 15. 控制系統(tǒng) ：配置VPI液晶控制系統(tǒng)?？芍悄芸刂葡到y(tǒng)操作。操作簡單，人機界面良好。 16. 均勻性 ：靶材均勻度直徑50mm內，金屬類膜厚均勻度可達±3% 17. 膜厚儀（選配）： 膜厚儀監(jiān)控范圍0～6000納米?？杀O(jiān)控速率0.001納米/秒。與觸 摸屏程序操作相結合，可聯動控制，監(jiān)測膜厚。 18. 可鍍材料：鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等 19. 電源電壓：220V 50Hz 20. 啟動功率：3KW |
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