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SD-900M
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l經濟、可靠、外觀精美。
l成膜速率高。
l基片溫度低，可以對溫度敏感的材料進行鍍膜。
l可實現(xiàn)大面積鍍膜。
l可調節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小，顆粒大小約4-20nm。
lSETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
l真空保護可避免真空過低造成設備短路。
l同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。
l通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。
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安裝條件 |
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主要參數(shù) |
1.主機規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H） 2.靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H） 3.靶材：Au（標配） 4.樣品室：玻璃腔體160mm×120mm（D×H） 5.靶材尺寸：Ф50mm 6.真空度：≤ 4X10-2 mbar 7.電流：100mA 8.定時器：數(shù)碼計時 0-999S 9.鍍膜面積：50mm 10.微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管 11.可通入氣體：多種 12.電壓：-1600 DCV 13.機械泵：標準配置2L/S（國產VRD-8） 14.冷卻方式：冷水機（可根據(jù)實驗具體要求自備） 15.速率：0--60nm/min |
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序號 |
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