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SD-900C
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濺射功能依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層均勻純凈。
熱蒸發(fā)功是能通過(guò)對(duì)碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝。
l簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
l可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大?。w粒大小約4-20nm)。
lSETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
l真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
l同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
l通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。
l獨(dú)立的濺射、蒸發(fā)上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。
l一體機(jī)更加經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。
l碳纖維繩更加細(xì)膩均勻、快速,更有利于分析材料結(jié)構(gòu)。
l濺射蒸發(fā)功能轉(zhuǎn)換方便快捷。
安裝條件 |
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主要參數(shù) |
1.儀器尺寸 :主機(jī) 300mm×360mm×380mm(W×D×H) 2.蒸鍍 300mm×360mm×160mm(W×D×H) 3.真空樣品室: 玻璃腔體 160mm×110mm(D×H) 4.靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H) 5.濺射靶 :二極直流濺射靶 (標(biāo)配)磁控靶(選配) 6.濺射靶材:Au 7.濺射靶材大?。?phi;50mm 8.樣品臺(tái):50mm (D) 9.濺射工作電壓:0-1600V (DC)可調(diào) 10.濺射電流:0-50 mA (磁控0-100mA) 11.濺射定時(shí):0-999S 12.蒸碳電流 0-100A(AC) 13.蒸發(fā)材料:碳纖維 14.蒸發(fā)工作電壓:0-30V 15.蒸發(fā)時(shí)間:0-1S 16.微型真空氣閥:可連接φ3mm軟管 17.可通入氣體: 多種 18.真空泵: 2升機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵(國(guó)產(chǎn)VRD-8) 19.速率:0--10nm/min(磁控0—60nm/min)
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序號(hào) |
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